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佳能时隔21年首度扩建光刻机生产基地
发布日期:2025-08-05 17:18:53  稿源:快科技

佳能(日本)宇都宫市的全新扩建后的光刻机工厂将于9月正式投入运营。这是自2004年该光刻机工厂落成后,时隔21年的首次扩建。旨在增产光刻设备,借助人工智能(AI)产业的迅猛发展,抢占由全球龙头企业阿斯麦主导的光刻设备市场。

面对全球AI产业催生的半导体需求激增,佳能斥资500亿日元(约合23.94亿人民币)打造的超6.7万平方米新厂区。

新工厂的核心突破在于双轨技术布局:在延续传统UV光刻设备生产的同时,引入革命性的纳米压印光刻系统。通过将电路图案直接压印至晶圆,大幅简化制造流程。

相较于传统光刻工艺,其在生产成本与能耗控制方面具备显著优势,为佳能挑战阿斯麦(ASML)的统治地位提供关键技术支点。

产能规划显示,新工厂预计2027年实现满产,届时联合宇都宫、阿见两大现有基地,佳能光刻机年产量将突破300台大关——较2024年233台的出货量跃升近30%。

尽管目前佳能以30%的全球市场份额位居行业第二,但在决定高端芯片性能的极紫外光(EUV)领域,仍与占据绝对主导的阿斯麦存在代际差距。

据世界半导体贸易统计组织预测,2026年全球半导体市场规模将达7607亿美元,年增长率8.5%,更有机构预判2030年市场将突破万亿美元大关。当阿斯麦凭借EUV技术收割高端芯片制造红利之际,佳能正试图通过纳米压印的差异化路径,在AI算力基础设施的黄金赛道上开辟新战场。

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